筑牢日本半导体财产链：DNP注资Rapidus，共推2027年2纳米芯片量产方针

发布时间：2026-02-28 来历：转载 责任编纂：lily

【导读】年夜日本印刷股份有限公司（DNP）今日公布介入Rapidus Corporation的战略融资，标记着其于下一代半导体系体例造范畴迈出要害一步。这次投资不仅强化了DNP与Rapidus的互助瓜葛，更将加快极紫外光刻（EUV）光掩模技能的开发与量产进程，为2027年实现2纳米逻辑半导体的范围化出产奠基坚实基础。面临全世界对于高机能、低功耗半导体日趋增加的需求，DNP正依托其于微细加工范畴的焦点技能，踊跃结构将来半导体财产链的要害环节。

Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日公布，公司作为投资方之一介入了Rapidus Corporation的融资轮。本次战略性融资将撑持Rapidus从当前研发阶段稳步迈向2027年实现2纳米（10⁻⁹米）逻辑半导体量产的规划。

经由过程本次融资，DNP将加速极紫外光刻光掩模的开发及量产，为Rapidus搭建2纳米和下一代半导体量产系统提供撑持。

配景

最近几年来，跟着数据天生量增加带来的能耗上升已经成为一项挑战，市场对于可以或许晋升装备机能及降低功耗的下一代半导体需求连续增加。

与现有技能比拟，采用极紫外光刻技能制造的下一代半导体可于硅片上形成更邃密的电路图案。这反过来又提高了人们对于实现更高机能、更低功耗半导体的指望。

于此配景下，DNP在2024年于日本新能源财产技能综合开发机构(NEDO)主导的“后5G信息及通讯体系基础举措措施强化研发项目”中当选定为Rapidus的子承包商。依托该项目，DNP连续推进2纳米世代极紫外光刻光掩模制造工艺的开发。

瞻望将来，为助力Rapidus于2027年实现2纳米世代逻辑半导体量产的方针，DNP致力在及早实现2纳米世代极紫外光刻光掩模的高良率、短交期出产。本次投资将进一步深化两家公司迄今成立的互助瓜葛。

将来瞻望

DNP将极紫外光刻光掩模定位为其半导体相干营业的焦点增加驱动力。公司将连续踊跃投入，同时推进技能研发，力争实现更邃密的1.4纳米世代和将来工艺。经由过程这些举措，DNP将为日本半导体财产的成长做出孝敬。

关在DNP

DNP创建在1876年，现已经成为全世界领军企业，以印刷技能为根底开拓新的贸易机缘，统筹情况掩护，致力构建更具活气的世界。公司依托微细加工与周详涂布焦点技能，为显示装备、电子器件和光学薄膜市场提供产物。

总结

经由过程本轮战略投资，DNP进一步巩固了其于进步前辈半导体质料范畴的领先职位地方，并明确将极紫外光刻光掩模作为焦点增加引擎。公司不仅致力在实现2纳米世代光掩模的高良率与短交期量产，还有前瞻性地推进1.4纳米和更进步前辈工艺的技能研发。此举不仅助力Rapidus告竣量产方针，也将为日本以致全世界半导体财产的可连续成长注入强劲动力，彰显DNP以技能立异鞭策社会前进的持久承诺。